什么是有机溶剂型清洗剂

嘉智新诺申请的溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用...财经新闻2024年8月11日，天眼查知识产权信息显示，安徽嘉智新诺化工 有限公司申请的项目名为"溶剂型易清洗有机硅改性聚合物及其制备方法和应用"，公开号CN202410566398.9，申请日期为2024年5月。 专利摘要显示，本发明公开了一种溶剂型易清洗有机硅改性聚合物...

创智生命科技（江苏）有限公司获得卫生级有机溶剂去除设备专利...该公司获得"卫生级有机溶剂去除设备"专利 "卫生设备"专利，授权公告号为CN221752299U，申请日期为2023年10月。 专利摘要显示，本实用新型公开了一种去除有机溶剂的卫生设备，包括有机溶剂回收组件和清洗灭菌组件。 卧式蒸发器的腔体、搅拌组件和真空口组；真空口组包括一个左右...

江华微已申请半导体氧化硅深孔蚀刻清洗剂及蚀刻方法专利，蚀刻效果优异...本发明公开了一种半导体氧化硅深孔蚀刻清洗剂，其成分为：0.5%~5%氟化氢、6%~2 0%氟化铵、30%~60%水混溶性极性有机溶剂、5%~20%铝络合剂、0.3%~10%铝保护剂、10%~35%水和10~10000ppm表面活性剂。 半导体氧化硅深孔蚀刻...

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节前清洁，这些清洁剂和消毒剂不要混合使用。春节前，很多家庭都会进行大扫除。但是，大家在大扫除过程中要注意。如果使用的清洁剂用量不对，清洁不当，可能会直接影响您的生活、健康和安全。 近日，龙岗区某公司生产车间员工使用有机溶剂（二甲苯分析级）对液压机工作台上的油污进行深度清洗，整个作业过程中没有佩戴防护口罩。 与此同时，让...

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鼎龙股份有限公司申请化学机械抛光后清洗相关专利，以提高铜在CMP工艺后的清洗效果...湖北鼎龙控股股份有限公司申请"化学机械抛光后的清洗组合物和半导体器件基板"专利 《清洁方法》，公开号CN202410523991.5，申请日期为2024年4月。 专利摘要显示，本发明涉及一种化学机械抛光后的清洗组合物，包括：pH调节剂、季铵碱、润湿剂、有机氮氧螯合剂、有机溶剂；以上包括……

瀛泰生物申请了一种解毒喹清洁制备方法专利，可减少废水量并产生...在第一有机溶剂碱和第一催化剂存在下，使5-氯-8-羟基喹啉与氯乙酸甲酯进行第一次接触反应，得到5-氯-8 羟基喹啉乙酸甲酯步骤；2)在第二有机溶剂和第二催化剂存在下，将步骤1)得到的5-氯-8-羟基喹啉乙酸甲酯和2-庚醇进行第二步骤。 接触反应获得奎宁解毒的步骤；其中，步骤2...

上海信阳获得一种清洗能力强、低腐蚀的聚酰亚胺清洗液专利。上海信阳半导体材料有限公司获得一项名为"聚酰亚胺清洗液"的专利，授权公告号CN116218611B，申请日期为2021年12月。 专利摘要显示，本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。 本发明清洗液的原料包括以下质量分数的成分：30%-80%有机溶剂、0.001%-0.01%还原型谷胱甘肽、...

上海信阳获得发明专利授权："聚酰亚胺清洗液"专利名称为"聚酰亚胺清洗液"，专利申请号为CN202111481386.9，授权日期为2024年6月21日。 专利摘要：本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。 本发明清洗液的原料包括以下质量分数组分：30％-80％有机溶剂、0.001％-0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％-0.25％半胱氨酸、1％-5。 ..

隆基绿能申请硅片无水清洗专利，实现硅片高效清洗。隆基绿能科技有限公司申请了"硅片无水清洗方法"专利，公众号CN117393417A。 申请日期为2023年11月。 专利摘要表明，本申请实施例提供了一种硅片的无水清洗方法，该方法包括：依次用两亲性有机溶剂和极性有机溶剂对待清洗的硅片进行清洗； 溶剂清洗后，...

杭州研泉申请了锂离子电池氧空位测试方法专利，以改进锂离子的测试...用有机溶剂浸泡清洗正极板，然后干燥，得到电极板样品；（2）将极片样品放入仪器样品室，设置仪器参数。 ，开始扫描测试，获得电子共振谱；（3）对步骤（2）得到的电子共振谱进行拟合处理，得到拟合谱。根据公式：计算拟合谱中吸收峰的g值，然后与标准值进行比较，确定...