啥是光刻胶_啥是光刻胶

杭州和盛微电子申请光刻胶涂覆方法专利，提高光刻胶的流动性，实现高...金融界消息2024年11月30日，国家知识产权局信息显示，杭州和盛微电子 有限公司申请了专利名称为"一种适用于高台阶基板的光刻胶涂覆方法"，公开号为CN119045285A，申请日为2024年10月。 专利摘要显示，本申请公开了一种适用于高台阶基板的光刻胶涂覆方法，包括步骤：S1.将...

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深圳邦德林半导体材料应用于黑色光刻胶的组成及其制备方法和黑色…2024年11月30日金融行业消息，来自国家知识产权局的信息显示， 深圳市邦德林半导体材料有限公司已申请专利名称为"黑色光刻胶组合物及其制备方法和黑框制作工艺"，公开号为CN119045278A，申请日期为2024年4月。 专利摘要表明，本发明公开了一种黑色光刻胶组合物及其制备方法和...

武汉新芯获得光刻胶灵敏度检测方法及检测系统专利。据金融界消息，2024年11月30日，国家知识产权局信息显示，武汉新芯集成电路有限公司已获得一项名为"光刻胶灵敏度检测方法及检测系统"的专利。 《电阻灵敏度检测方法及检测系统》专利，授权公告号为CN114242609B，申请日期为2021年12月

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上海艾神莎获得增强阴性负性光刻胶及其制备方法专利据金融行业消息，2024年11月30日，国家知识产权局信息显示，上海艾神科技有限公司已获得一项名为"增强型负性光刻胶及其制备方法"的专利。 《制备方法》专利，授权公告号为CN118151491B，申请日期为2024年3月。

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苏州昊神智能科技获得半自动显影装置专利，使光敏电阻完全固定在晶圆上...多个弹簧固定在工作台与显影柜相对的一侧，由转盘驱动调节 机构旋转，显影柜在转盘和弹簧的共同作用下，沿工作台作往复直线运动。 通过设定的驱动机构，驱动源带动转盘旋转，使显影柜内的显影剂来回移动。晶圆表面的光敏电阻与显影剂发生反应，带走反应的显影...

...该专利方法和晶圆加工设备可以减少甚至避免晶圆边缘光刻胶粘连和拉丝的现象。该晶圆加工方法包括以下步骤：将晶圆放入加工室； 在晶圆表面涂抹光刻胶；在处理室内向晶圆边缘喷洒溶胶，以去除晶圆边缘的光刻胶。 本发明减少甚至避免了晶圆边缘光刻胶粘连和拉丝的现象，提高了半导体制造效率，简化了...

荣达感光：公司光刻胶产品的主要客户包括深南电路、晶旺电子等企业。据金融行业消息，11月29日，有投资者在互动平台上询问容达感光：公司光刻胶产品的客户有哪些？公司回复：公司光刻胶产品大师 包括：PCB用光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等。公司PCB光刻胶主要客户包括深南电路、晶旺电子、崇达科技、盛虹科技、欧康、建鼎、瀚宇博德等公司...

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濮阳汇成：光刻胶中间体项目研发工作持续进行，营收占营业总收入比例……据财经界消息，11月29日，有投资者在互动平台向濮阳汇成提问：董书记，您是 那么，公司光刻胶中间体项目进展如何？公司回应称，公司相关中间体的研发工作仍在继续进行，但其收入占公司整体营业收入的比例较低。

...销售价格涉及商业机密。KrF/ArF晶圆光刻胶产品加仑样品的验证进展顺利。加仑样品验证已经有一段时间了。我想问一下进展如何，我今天看到新闻。 光刻胶生产线已于2025年一季度投产，是否意味着验证已基本完成，可逐步进入导入流程？谢谢！公司回应：1、公司半导体业务已成为公司主营业务收入和利润增长的重要驱动力。 电源、年度通用耗材业务传统打印复印...

九日新材料：PhotoresistCore原材料光敏剂均为自主生产，从产业链源头生产。据金融界消息，11月27日，有投资者在互动平台向久日新材提问：尊敬的秘书长，您好！请问贵公司的光刻胶产品和光敏剂怎么样？ 光刻胶专用光敏剂整个产业链是否可以自主可控？谢谢！公司回应称，公司光刻胶用核心原材料光敏剂大部分由公司自产，公司光刻胶用光敏剂PAC的生产来源于整个行业。 从链条的源头开始做。

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